TOP > 事業概要 > エレクトロニクス分野 > クリーンルームエア分析による半導体製造装置評価

クリーンルームエア分析による半導体製造装置評価

目的

クリーンルームエアの分析により、製品歩留まりの向上や、半導体製造装置の性能評価を行なうことを目的とした。

方法

出張サンプリング、機材貸し出しによるクリーンルームエア評価
  ・インピンジャーバブリング
  ・TENAX管吸収
出張サンプリング、機材貸し出しによる半導体製造装置エア評価
  ・インピンジャーバブリング
  ・TENAX管吸収

試験装置・ソフト

・ICP-MS
・イオンクロマトグラフ法
・GC-MS

結果

・クリーンルーム中エアおよび装置内エアとも中の金属成分量としては、定量下限以下の低いレベルに保たれていることが分かった。
・装置内エア中のイオン成分量としては、クリーンルーム中エアと同レベルの箇所と、クリーンルーム中エアより低く保たれている箇所があった。

お客様の成果

・装置配管の不備による、クリーンルーム中エアの流入が確認できた。
・装置の改良により、歩留まりの低下を未然に防ぐことができた。

イメージ ※クリックすると拡大します。

  • 図1)クリーンルームエアサンプリング図(金属分析、イオン分析:インピンジャー)
  • 図2)クリーンルームエアサンプリング図(有機分析:TENAX管)

関連個別商品

関連試験装置

事業概要