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精密エッチング・コーティングシステム

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  • 概要
    走査電子顕微鏡(SEM)、結晶方位解析(EBSP)、X線マイクロアナライザー(EPMA)用の広範囲且つクリーンな観察領域をもつ試料の作製のために、イオンビームを用いたエッチング及びスパッタコーティングを行うシステムである。
  • 仕様
    ・型式 : PECS682
    ・イオンガン:小型希土類磁石付ペニングガン3機
    ・イオンビームエネルギー:1.0~10.0keV
    ・エッチング領域:10mm
    ・コーティング領域:1.0インチ
    ・コーティング材:C、Cr
  • 試料
    ・試料サイズ:25.4mmφ×10mm
    ・SEM観察用金属材料、半導体材料
    ・EBSP解析用金属材料、半導体材料
    ・EPMA分析用金属材料、半導体材料
  • 特徴
    ・湿式化学エッチングの代替あるいはその補助として使用できる。
    ・エッチングとコーティングを同じチャンバーで行うことができ、作業効率が良い。
    ・試料を回転、振動させることにより均一なエッチングを可能にする。
  • 実施例
    ・半導体実装部品のボンディング部断面観察用試料調製
    ・薄膜断面観察用試料作製