エッジロールオフ測定装置

エッジロールオフ測定装置

エッジロールオフ測定装置概要

シリコンウェーハのエッジ付近の形状を管理することは、CMPやリソグラフィープロセスにおける不良を抑えるために重要です。近年、エッジ近傍における平面からのズレを顕すエッジロールオフが注目を集めています。エッジロールオフを表現する指標として、ROARoll Off Amount )というパラメータが提案されています(注1)。ROAは、図のように、ウェーハのエッジからX1X2に設定した参照領域のフィッティングラインと実プロファイルの差を表す量で、大きいほどエッジ付近でダレが生じていることを意味しています。注1)M. Kimura, et. al: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) pp38.

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原理

斜入射干渉計式(LERシリーズ)

 

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コベルコ科研のエッジロールオフ測定装置は、斜入射干渉光学系を採用しています。レーザ光をプリズムを介してウェーハの表面と裏面に同時に照射し、プリズムとウェーハの距離を変えながら、CCDカメラで干渉縞画像を取得します。干渉縞を解析することにより、表面と裏面の形状を算出します。形状から、ROAや厚さ等を求めます。

シャックハルトマン式(SERシリーズ)

 

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測定例

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製品ラインナップ

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装置の特長

高スループット
表裏同時計測
非接触・非破壊

 

オプション

OHT(フルオート)対応
ホスト通信 

 

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