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X線残留応力測定(薄膜・微小部)

  • 方法
    結晶の格子面間隔の伸縮を非接触,非破壊的で測定する。結晶に加わる残留応力は
    2θ-Sin2Ψ法で算定する。微小部応力測定ではCCDカメラ(60~240倍)で確認して測定位
    置を決定する。
  • 試験装置・ソフト
    装置型式:㈱リガク製 高分解能・微小部複合型X線回折装置 SmartLab-RapidⅡ
    試料サイズ:大きさ100mmφ以下、厚み30mmt以下 (要相談)
  • イメージ

    ※クリックすると拡大します。

    • 図1)クリップのNiめっき膜の残留応力測定の部位間の比較例。 照射X線のサイズはφ300μmを使用した。
  • 特徴
    従来のX線残留応力装置では困難な材料や薄膜(Al2O3、TiN、Tiなど)の応力測定が可
    能になる。微小部(照射サイズφ30~800μm)X線残留応力測定が可能である。強い集合
    組織や配向を持った材料に関しても、2次元検出器を用いることにより影響を抑えること
    が可能である。標準測定では-50mm~+50mm領域の、微小部測定では-3mm~+3mm領域
    のX,Yマッピング機構も備えている。
  • 実施例
    ・TiN膜、Al2O3膜などの薄膜の残留応力測定
    ・Ti合金などの残留応力測定
    ・電子実装部品:基板上配線膜や接合部位の残留応力測定