特殊溶解材料
special melting material
スパッタリング
ターゲット
スパッタリングターゲットとは高機能薄膜をスパッタリング法で形成する際に必要な母材のことです。当社はお客様の用途、薄膜に要求される特性に応じて、高機能薄膜の形成に必要とされる高品質の各種スパッタリングターゲットをご提供しております。
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アルミニウム合金スパッタリングターゲット
主な用途 ・フラットパネルディスプレイ用配線膜、反射電極膜
・タッチパネル用配線膜薄膜に要求される特性 ・低電気抵抗率
・高耐熱性
・高反射率特徴 独自開発のアルミニウム合金スパッタリングターゲット -
02
銀合金スパッタリングターゲット
主な用途 ・光ディスク用反射膜
・フラットパネルディスプレイ用反射電極膜薄膜に要求される特性 ・高反射率
・高耐久性特徴 独自開発の銀合金スパッタリングターゲット -
03
酸化物半導体スパッタリングターゲット
主な用途 ・フラットパネルディスプレイ用半導体膜 薄膜に要求される特性 ・高移動度 特徴 独自開発の酸化物半導体スパッタリングターゲット -
04
純チタンスパッタリングターゲット
主な用途 ・フラットパネルディスプレイ用配線膜 薄膜に要求される特性 ・高耐熱性 特徴 大型純チタンスパッタリングターゲット -
05
金属酸化物複合ターゲット
主な用途 ・光学膜 薄膜に要求される特性 ・光学特性 特徴 金属と酸化物の複合材ターゲット -
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その他
主な用途 ・切削工具用硬質膜 薄膜に要求される特性 ・高耐摩耗性 特徴 アークイオンプレーティング法などで工具・金型・機械部品にコーティングするターゲット、コーティングは耐摩耗性等の性能を高める
ご依頼の流れ(スパッタリングターゲット)
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01
お問い合わせ
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02
お打合せ・仕様の
確定・お見積り -
03
ご発注
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04
製造
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05
納品
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