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Beyond IGZO to the next stage!

高移動度酸化物半導体
スパッタリングターゲット材(KOSシリーズ)

~高移動度酸化物層追加で課題解決をアプローチ~

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Beyond Point 1

IGZOの性能をさらに高めたパネルを実現します!

KOSターゲット(高移動度酸化物)薄膜を成膜することにより、IGZOに比べ更なる低消費電力、ハイリフレッシュレート、デザインの自由度、超高精細画像を実現することができ、益々高まるパネルニーズの多様化に貢献することが可能になります。

Beyond Point 2

KOSターゲットの強み!

KOSターゲットは量産採用実績があり、既存の生産プロセスに対応したスパッタリングターゲット材が提供可能です。

特徴
・LCD、OLED、E-Paper、X線センサー用途での豊富な量産実績
・高い電子移動度、量産可能な優れた安定性、信頼性を実現
・特にIGZOに1層追加した積層構造でも単層同等の性能を発揮
・DCスパッタ可能、低温プロセス(350℃)など既存LCD、OLED量産プロセス適合性に優れる
・ターゲットは板、円筒まであらゆる形状で製作可能

Beyond Point 3

目的に応じた豊富なLine up!

業界標準材としての KOS‑B03C(移動度30) を軸に、保護膜として使用いただく KOS‑HR、移動度を高めた KOS‑HM3(移動度40)、次世代結晶系 KOS‑HMK(移動度50・開発中) と様々なLine upがございます。

Beyond Point 4

KOSシリーズ特性比較表

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