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精密エッチング・コーティングシステム
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- 概要
- 走査電子顕微鏡(SEM)、結晶方位解析(EBSP)、X線マイクロアナライザー(EPMA)用の広範囲且つクリーンな観察領域をもつ試料の作製のために、イオンビームを用いたエッチング及びスパッタコーティングを行うシステムである。
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- 仕様
- ・型式 : PECS682
・イオンガン:小型希土類磁石付ペニングガン3機
・イオンビームエネルギー:1.0~10.0keV
・エッチング領域:10mm
・コーティング領域:1.0インチ
・コーティング材:C、Cr
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- 試料
- ・試料サイズ:25.4mmφ×10mm
・SEM観察用金属材料、半導体材料
・EBSP解析用金属材料、半導体材料
・EPMA分析用金属材料、半導体材料
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- 特徴
- ・湿式化学エッチングの代替あるいはその補助として使用できる。
・エッチングとコーティングを同じチャンバーで行うことができ、作業効率が良い。
・試料を回転、振動させることにより均一なエッチングを可能にする。
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- 実施例
- ・半導体実装部品のボンディング部断面観察用試料調製
・薄膜断面観察用試料作製